CrPt_3規則合金膜へのイオン照射による微細ビットパターン構造の作製
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概要
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CrPt_3規則合金膜へ30keVのKr^+イオンを照射することで,CrPt_3膜はL1_2型の規則相からA1型不規則相へ相変化し,それに伴い強磁性から非磁性へ変化する.局所的なイオン照射を行うことでCrPt_3膜に微細なビットパターン構造を作製し,磁気力顕微鏡(MFM)により磁化過程の評価を行った.ビットサイズ50nmx50nmのCrPt_3の磁化反転は主に単磁区の磁化回転で進行することが分かった.CrPt_3ビットパターン膜の平均の磁化反転磁界H_<sf>はビットサイズ減少に伴い増加した.一方,反転磁界分布ΔH_<sf>はサイズ減少に伴い減少した.これから,微細なイオン照射型パターン膜においても低ΔH_<sf>/H_<sf>が実現できることが分かった.
- 2010-10-07
著者
-
大島 大輝
名古屋大学大学院工学研究科
-
加藤 剛志
名古屋大学大学院工学研究科
-
岩田 聡
名古屋大学大学院工学研究科
-
Suharyadi Edi
名古屋大学 工学研究科
-
Suharyadi Edi
名古屋大学工学研究科:日本学術振興会
-
加藤 剛志
名古屋大学
-
大島 大輝
名古屋大学 工学研究科
-
岩田 聡
名古屋大学 工
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岩田 聡
名古屋大学
-
加藤 剛志
名古屋大学工学部
-
大島 大輝
名古屋大学
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