Fabrication of Patterned Co/Pd Nanostructures Using E-Beam Lithography and Ga Ion-Irradiation(ハードディスクドライブ及び一般)
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概要
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Electron-beam lithography technique followed by Ga ion irradiation at ion dose of 5×10^<15> ions/cm^2 has been used for fabricating patterned Co/Pd perpendicular magnetic multilayer films without significant modification of the surface roughness. Un-irradiated square bits with lateral sizes from 200 to 500nm and spacing from 50 to 200nm have been fabricated. MFM images showed that uniformly bright and dark magnetic contrasts at the position of square bits were observed in the patterned sample with square bits size of 200nm, indicating down and up perpendicular single magnetic domains. M-H loops of the patterned Co/Pd film indicated the existence of the exchange coupling between squares via irradiated spacing.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-02-03
著者
-
加藤 剛志
名古屋大学大学院工学研究科
-
Iwata Satoshi
Center For Cooperative Research In Advanced Science And Technology Nagoya University
-
SUHARYADI Edi
Dept. of Electrical Engg. and Computer Sci., Nagoya University
-
KATO Takeshi
Dept. of Electrical Engg. and Computer Sci., Nagoya University
-
TSUNASHIMA Shigeru
Dept. of Electrical Engg. and Computer Sci., Nagoya University
-
Suharyadi Edi
Dept. Of Electrical Engg. And Computer Sci. Nagoya University
-
Iwata Satoshi
Department Of Electronics Nagoya University
-
Iwata S
Center For Cooperative Res. Advanced Sci. & Technol. Nagoya Jpn
-
綱島 滋
名古屋産業科学研究所研究部
-
Kato Takeshi
Dept. Of Electrical Engg. And Computer Sci. Nagoya University
-
IWATA Satoshi
Center for Cooperative Research in Advanced Science and Technology (CCRAST), Nagoya University
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