706 光Critical Dimension計測技術による金属配線プロセス評価の検討(OS7 オーガナイズドセッション《精密/微細加工と評価》)
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概要
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We report on an optical critical dimension and electric conductivity measurement technology for in-line inspection tool on metallization process of microelectronics. The idea of conductivity estimation from optical scattering, whole inspection system including the analyzing method, and demonstrations of critical dimension and conductivity measurements on silver and copper surfaces are presented.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2010-08-27
著者
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