低分子スピンコート膜の光重合による燐光性高分子薄膜のパターン形成(作製・評価技術・一般,有機材料・一般)
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概要
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アクリルモノマー,光重合開始剤,及び発光性ドーパントの低分子混合溶液をスピンコートし,フォトマスクを介して紫外線(UV)照射を行い,有機溶媒で未重合部分を除去することによって高分子薄膜パターンを形成した.アクリルモノマーに2-(9H-Carbazol-9-yl)ethylmethacrylate,光重合開始剤に4-(Dimethylamino)benzophenone,ドーパントとしてIridium(III)Bis(2-phenylpyridinate(4-vinylphenylpyridine))を用いた.製膜溶媒はtetrahydrofuranと1,4-dioxaneの混合溶媒が適当であり,現像溶媒としてはethanolが良好な結果を与えた.露光は製製膜後直ちに行う必要があり,60mW/cm^2以上の強度で均質な重合膜が得られ,露光時間の増大とともに現像後の膜厚も増大した.このようにして得られた薄膜パターンを発光層として利用した有機EL素子の動作確認を行った.
- 2011-05-20
著者
-
臼井 博明
東京農工大学
-
室山 雅和
東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
-
宮川 大地
東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
-
田中 邦明
東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
-
田中 邦明
東京農工大学
-
室山 雅和
東京農工大学
-
臼井 博明
東京農工大有機材料化学科
-
宮川 大地
東京農工大学大学院工学府
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