表面重合開始蒸着重合法を用いたポリペプチド薄膜形成過程のその場観察による解析(有機材料・デバイス(有機トランジスタ,化学センサなど)・一般)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
ポリペプチドは生体親和性やコンフォーメーションの多様性などから新規機能材料として興味深い。本研究では金表面に重合開始剤とアミノ酸無水物を順次蒸着することによって、全真空ドライプロセスによるポリペプチド薄膜形成を試み、膜成長過程を表面プラズモン共鳴(SPR)によってその場観察した。第一段階では金基板表面にアミノエタンチオール(AET)を蒸着し、開始剤薄膜を形成した。その結果、単純な蒸着ではAETは基板表面に体積しないが、熱フィラメントを併用することによってAET薄膜の成長が可能になることが見出された。次にAET蒸着服表面にγ-benzyl-L-glutaminate N-carboxy anhydride(NCA)を蒸着し、ポリペプチド薄膜の形成を試みた。その結果、NCA膜の成長過程はAET開始剤薄膜の厚さによって異なり、AETの膜厚が15nm以下ではNCAは蒸着時間に比例して平坦な薄膜が成長するのに対し、AET膜厚が20nm以上ではNCAは約50nmまで均質に成長した後、不安定な膜が急速に成長する2段階の成長過程を示すことが示された。これらの結果から、熱フィラメント蒸着を用いて10nm以下の薄くて均質なAET薄膜を蒸着し、その上にNCAを積層蒸着することによって、全ドライプロセスで均質なポリペプチド薄膜を形成できることが明らかとなった。
- 2008-01-04
著者
-
臼井 博明
東京農工大学
-
小倉 健太
東京農工大学
-
デュラン H.
マックスプランク高分子研究所
-
田中 邦明
東京農工大学工学部
-
田中 邦明
東京農工大学
-
臼井 博明
東京農工大有機材料化学科
-
アドビンクラ R
ヒューストン大学
-
デュラン H
マックスプランク高分子科学研究所
-
小倉 健太
東京農工大学大学院共生料学技術研究部
関連論文
- CS-4-8 物理蒸着によるポリペプチド薄膜成長過程の表面プラズモン観察(CS-4.有機・バイオデバイスに向けた界面の役割,シンポジウムセッション)
- C-13-5 燐光性ビニル化合物を用いた二色積層型有機EL素子の作製(C-13.有機エレクトロニクス,一般セッション)
- 発光層にビニル化合物を用いた有機EL素子の作製(材料デバイスサマーミーティング)
- 界面に共蒸着層を導入した有機EL素子の発光特性
- イオン化蒸着重合法によるポリ尿素薄膜の配向制御
- イオン化蒸着法によるポリ尿素薄膜の配向制御
- 光反応性有機薄膜を用いた有機EL素子形成 (情報ディスプレイ)
- メンブレンスイッチを背面板とした電子ペーパディスプレイの開発 : Roll to Rollプロセスへのアプローチ(有機材料・薄膜・界面・デバイス/フィルムベースデバイスのための界面制御とプロセス技術)
- 光反応性有機薄膜を用いた有機EL素子形成(フレキシブルエレクトロニクス)
- 自己組織化膜形成による酸化金属電極の表面修飾 (有機エレクトロニクス)
- 重合性モノマーと開始剤の共蒸着による高分子薄膜の作製(有機材料・一般)
- ビニルカルバゾール蒸着重合膜形成における表面開始剤SAM膜の効果(有機材料,一般)
- 蒸着重合法によるフッ素系高分子薄膜の形成と反射防止膜への応用(有機材料・薄膜・界面・デバイス/フィルムベースデバイスのための界面制御とプロセス技術)
- 光反応性有機薄膜を用いた有機EL素子形成 (有機エレクトロニクス)
- TPDを有するビニルモノマーの薄膜重合とEL素子への応用
- アクリレート化合物の蒸着重合と有機発光素子への応用
- 表面重合開始蒸着重合法を用いたポリペプチド薄膜形成過程のその場観察による解析(有機材料・デバイス(有機トランジスタ,化学センサなど)・一般)
- 蒸着重合法による光・電子機能高分子膜の作製
- 光反応性有機薄膜の蒸着とパターン形成への応用
- 蒸着重合法によるフッ素系高分子薄膜の形成と反射防止膜への応用
- フィルムベース有機デバイスのための界面制御とプロセス技術に関する技術調査総括
- C-13-6 ポリペプチド薄膜蒸着重合過程のその場表面プラズモン観察(C-13.有機エレクトロニクス,一般講演)
- C-13-3 蒸着重合法による耐熱性フッ素系高分子薄膜の作製とその反射防止特性の検討(C-13.有機エレクトロニクス,一般セッション)
- エレクトロスプレー法によるPEDOT/PSSの製膜と電気化学評価
- C-13-5 エレクトロスプレー法によるPEDOT/PSSの製膜と電気化学評価(C-13.有機エレクトロニクス,エレクトロニクス2)
- ペリレンを骨格に持つポリイミド蒸着重合膜の電気的特性(有機材料・デバイス・一般)
- エレクトロスプレー法による高分子半導体微粒子の形成(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- エレクトロスプレー法による高分子半導体微粒子の形成(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 光反応性有機薄膜を用いた有機EL素子形成(フレキシブルエレクトロニクス)
- 光反応性有機薄膜を用いた有機EL素子形成(フレキシブルエレクトロニクス)
- メンブレンスイッチを背面板とした電子ペーパディスプレイの開発 : Roll to Roll プロセスへのアプローチ
- 発光層にビニル化合物を用いた有機EL素子の作製(材料デバイスサマーミーティング)
- 発光層にビニル化合物を用いた有機EL素子の作製(材料デバイスサマーミーティング)
- C-13-7 蒸着重合法の有機EL素子特性への効果(C-13. 有機エレクトロニクス,一般セッション)
- C-13-1 表面開始蒸着重合による高分子正孔輸送層の作製(C-13. 有機エレクトロニクス,一般セッション)
- C-13-5 蒸着重合法による有機EL素子特性の改善(C-13.有機エレクトロニクス,一般講演)
- 重合性モノマーを用いた有機燐光発光素子の作製(発光・表示記録用有機材料及びデバイス・一般)
- 重合性モノマーを用いた有機燐光発光素子の作製(発光・表示記録用有機材料及びデバイス・一般)
- C-13-1 ビニル化合物を用いた有機EL素子の作製(C-13.有機エレクトロニクス,一般講演)
- C-13-6 蒸着重合法による有機EL素子特性の改善(C-13.有機エレクトロニクス,一般講演)
- 蒸着重合法による有機EL素子特性の改善
- 蒸着重合法による有機EL素子特性の改善(表示記録用有機材料及びデバイス・一般)
- 蒸着重合法による有機EL素子特性の改善(表示記録用有機材料及びデバイス・一般)
- C-13-6 蒸着重合法による有機EL薄膜の作製(C-13.有機エレクトロニクス,エレクトロニクス2)
- 蒸着重合法を用いた有機EL素子の作製(圧電デバイス・材料, 強誘電体材料, 有機エレクトロニクス, 一般)
- 蒸着重合法を用いた有機EL素子の作製(圧電デバイス・材料, 強誘電体材料, 有機エレクトロニクス, 一般)
- 有機EL発光層上へのSrO薄膜の作製
- 蒸着重合法を用いた有機EL素子の作製(圧電デバイス・材料, 強誘電体材料, 有機エレクトロニクス, 一般)
- 開始剤処理基板上への蒸着重合膜形成と有機EL素子への応用
- 開始剤処理基板上への蒸着重合膜形成と有機 EL 素子への応用(表示記録用有機材料及びデバイス・一般)
- 開始剤処理基板上への蒸着重合膜形成と有機 EL 素子への応用(表示記録用有機材料及びデバイス・一般)
- 開始剤SAM膜を利用した高分子蒸着膜の形成
- 開始剤SAM膜を利用した高分子蒸着膜の形成(有機超薄膜と有機デバイス, 一般)
- 蒸着重合法によるエポキシ高分子薄膜の作製(有機デバイス全般・一般)
- イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製(有機デバイス全般・一般)
- 自己組織化膜形成による酸化金属電極の表面修飾(有機材料・一般)
- 蒸着重合による高分子薄膜形成と有機薄膜発光素子への応用
- ガス中蒸着法による銅フタロシアニン薄膜の作製
- 蒸着重合法によるフッ素系高分子薄膜形成と表面物性制御(有機材料・一般)
- TPD蒸着膜の熱重合による正孔輸送層の形成(光機能性有機材料・デバイス、光非線形現象,一般)
- TPD蒸着膜の熱重合による正孔輸送層の形成(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 電子注入層に酸化ストロンチウムを用いた有機EL素子
- Alq上への酸化ストロンチウム薄膜形成とEL素子への応用
- Alq上への酸化ストロンチウム薄膜形成とEL素子への応用
- Alq上への酸化ストロンチウム薄膜形成とEL素子への応用
- イオン化蒸着によるアクリレート重合膜の作製とその応用
- イオン化蒸着法による有機EL用電荷輸送材料の重合膜形成
- イオン化蒸着法による有機EL用電荷輸送材料の重合膜形成
- イオン化蒸着法による有機EL用電荷輸送材料の重合膜形成
- C-13-3 スピンコートと光重合による高分子薄膜の微細パターン形成(C-13.有機エレクトロニクス,一般セッション)
- C-6-15 光誘起蒸着重合法によるポリビニルカルバゾール薄膜の形成(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- フッ素系アクリレート高分子膜の蒸着重合における表面物性制御
- C-13-5 フッ素系高分子膜の蒸着重合におけるモノマー材料と物性制御(C-13.有機エレクトロニクス,一般講演)
- 蒸着重合法によるフッ素系高分子薄膜形成と表面物性制御
- In situ赤外分光測定による蒸着重合薄膜の構造解析に関する研究(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- In situ赤外分光測定による蒸着重合薄膜の構造解析に関する研究(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- In situ赤外分光測定による蒸着重合薄膜の構造解析に関する研究(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 有機界面幾何工学とエレクトロニクス
- 有機エレクトロニクス界面幾何工学の展開
- 有機超薄膜の界面現象と機能
- 傾斜銅細線-イオン穿孔膜の赤外偏光特性(有機材料・デバイス・一般)
- 物理蒸着による高分子薄膜形成と界面制御
- 薄膜形成プロセスからの有機EL開発 : イオン化蒸着法を中心として
- イオン化蒸着重合法による配向ポリマー薄膜の成膜技術
- ドライプロセス・有機薄膜ワークショップ
- イオン化蒸着による有機薄膜構造制御とEL素子への応用
- イオン化蒸着法による有機EL素子の作製
- イオン化蒸着法による有機EL用電子注入電極の作成
- 2段イオン化蒸着法による有機EL素子用電子注入電極の作製
- イオン化蒸着法による有機EL素子の試作
- イオン化蒸着法によるAlq_3薄膜の作製とEL素子への応用
- C-13-4 PEDOT/PSSのエレクトロスプレー膜のモホロジー制御(C-13.有機エレクトロニクス,一般講演)
- イオン照射アシストによる蒸着重合膜の作製(有機薄膜・複合膜とデバイス応用,一般)
- C-13-4 TPD蒸着重合膜の形成と有機ELへの応用
- CS-11-6 物理蒸着法を用いた有機デバイスの界面制御(CS-11.有機エレクトロニクスにおける分子幾何学-界面・超構造・配向およびデバイス形成におけるトポロジー-,シンポジウム)
- 物理蒸着法による高分子の無溶媒製膜技術 (特集2 次代をつくる実用研究開発)
- C-13-3 イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子膜の光学反射防止特性(C-13.有機エレクトロニクス,一般セッション)
- C-13-2 ベンゾフェノンSAM膜を用いた有機/無機界面制御(C-13.有機エレクトロニクス,一般セッション)
- Sr電子注入層を用いた有機EL素子の作製
- Sr電子注入層を用いた有機EL素子の作製