イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製(有機デバイス全般・一般)
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概要
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フッ素系高分子薄膜の新規な形成技術としてイオンアシスト蒸着法を試みた.基板表面に低エネルギーArイオンを照射しつつフッ化アルキルアクリレートモノマーを蒸着した結果,高い撥水性を示すフッ素系高分子薄膜が得られた.これに対しイオン照射なしの蒸着では,薄膜を堆積することはできなかった.金表面では平坦な薄膜が得られたが,ガラス表面では膜表面に凹凸が観察された.これは未反応モノマーの凝集物と考えられ,HCFC-225溶媒で膜表薗を洗浄することで平坦性を向上させることができた.本手法を用いてガラス表面に厚さ100nmの高分子薄膜を形成した結果,光反射率を8%から3%へ低減できた.
- 2010-10-15
著者
-
臼井 博明
東京農工大学
-
田中 邦明
東京農工大学工学部
-
泉田 和夫
住友精密工業株式会社
-
田中 邦明
東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
-
田中 邦明
東京農工大学
-
松田 剛
東京農工大学大学院工学府
-
臼井 博明
東京農工大有機材料化学科
-
泉田 和夫
東京農工大学大学院工学研究院:住友精密工業(株)
-
松田 剛
東京農工大学大学院
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