重合性モノマーと開始剤の共蒸着による高分子薄膜の作製(有機材料・一般)
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概要
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重合性モノマーと重合開始剤との共蒸着膜に露光・現像を行うことで、高分子薄膜パターンを形成した。本手法を用いることで、蒸着時にメタルマスクを使用せずに材料のパターニングが可能になる。まず、重合性開始剤である4-(Dimethylamino)-benzophenone (DABP)とIRUGACURE907 (IRU)が単独で安定に蒸着できることが判明した。次に、重合性モノマーである2-(9H-carbazol-9-yl) ethylmethacrylate (Car)とDABPまたはIRUを、10:1の等価膜厚比で共蒸着し、マスクを通して露光(355nm)を行い、THFにて現像を行うと光照射された部分のみが残存した。また、露光・現像によって表面粗さや、膜厚の変化がないことを確認した。さらに、ライン-スペースが10μmのフォトマスクを用いても良好なパターンが形成された。これにより、重合性モノマーと重合開始剤の共蒸着膜に露光・現像のプロセスを経ることで、有機電子デバイスに有用な微細パターンを持つ高分子薄膜を形成できることが観察された。
- 2008-12-04
著者
-
臼井 博明
東京農工大学
-
田中 邦明
東京農工大学工学部
-
室山 雅和
東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
-
横倉 精二
東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
-
田中 邦明
東京農工大学
-
室山 雅和
東京農工大学
-
臼井 博明
東京農工大有機材料化学科
-
横倉 精二
東京農工大学
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