フォトニック結晶スローライトデバイスへのCMOSプロセス適用と加熱による遅延チューニングの応用(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
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概要
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我々は精度,均一性,再現性に優れたCMOSコンパチブルプロセスにより,フォトニック結晶導波路(PCW)スローライトデバイスを作製した.スポットサイズ変換器の集積により,外部光学系とPCWの結合効率を大幅に改善した.またPCW近傍に集積した個別制御可能な複数のヒーターの加熱により,PCW面内に所望の温度分布を形成し,これによる遅延チューニングを実証した.またこのような加熱を用いた遅延チューナブルデバイスを,光相関計における従来の低速な(〜10Hz)機械可変遅延と置き換え,高速な(>1kHz)繰り返し周波数において相互相関波形を観測した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2011-01-20
著者
-
足立 淳
横浜国立大学大学院 工学研究院 知的構造の創生部門
-
馬場 俊彦
横浜国立大学工学研究院
-
馬場 俊彦
横浜国大・工
-
馬場 俊彦
横浜国立大学
-
馬場 俊彦
横浜国立大学大学院工学府
-
馬場 俊彦
横浜国立大学大学院工学研究院:jst-crest
-
玉貫 岳正
横浜国立大学大学院・工学部
-
グェン ホン
横浜国立大学大学院・工学部
-
鈴木 恵治郎
横浜国立大学大学院・工学部
-
石倉 徳洋
横浜国立大学大学院・工学部
-
新川 瑞季
横浜国立大学大学院・工学部
-
早川 涼
横浜国立大学大学院・工学部
-
濱 陽介
横浜国立大学大学院・工学部
-
足立 淳
横浜国立大学大学院・工学部
-
新川 瑞季
横浜国立大学 工学研究院
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