0.9μm Pitch Pixel CMOSイメージセンサ設計手法(固体撮像技術)

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概要

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我々は、画素ピッチ縮小に伴い顕在化する光回折ロスを一定に保つ定光回折スケーリング画素設計手法を考案した。遮光メタル開口/高さ及びPD開口の関係を解析し、画素ピッチに関係なく高量子効率を得る設計手法を実証した。世界初0.9及び1.12μmカラー画出しを実現し、将来必要となる遮光メタルのTechnology node予測も行った。
2010-03-26

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