In Situ Optical Monitoring of Growth Rate and Surface Roughness of YBa_2Cu_3O_<7-y> Films in Chemical Vapor Deposition
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概要
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An optical method for in situ monitoring of film thickness has been applied to growth of YBa_2Cu_3O_<7-y> films by chemical vapor deposition. Reflectivity change is monitored at an incident angle of 78° from the film growing on MgO(100) substrate. An oscillation in the reflection intensity resulting from interference inside the YBa_2Cu_3O_<7-y> layer is observed with the deposition time. The deposition rate calculated from the oscillation frequency agrees well with the value estimated from chemical analysis of the film. Increase of CuO precipitate with increasing Cu content in the film results in a corresponding decrease of the reflection intensity due to the scattering of laser light at the film surface. Therefore, this simple method provides an effective means for growth control of superconducting thin film by chemical vapor deposition.
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1992-07-01
著者
-
TANAKA Shoji
Superconductivity Research Laboratory, International Superconductivity Technology Center
-
Tanaka S
Superconductivity Research Laboratory International Superconductivity Technology Center
-
Tanaka S
Osaka Prefecture Univ. Sakai
-
Tanaka S
International Superconductivity Technol. Center Tokyo Jpn
-
Tanaka S
Tokyo Inst. Technol. Tokyo Jpn
-
Hirabayashi I
Superconductivity Research Laboratory International Superconductivity Technology Center
-
Hirabayashi Izumi
Superconductivity Research Laboratory International Superconductivity Technology Center
-
Higashiyama K
Univ. Tsukuba Ibaraki Jpn
-
HIGASHIYAMA Kazutoshi
Superconductivity Research Laboratory, Nagoya Division, International Superconductivity Technology C
-
Tanaka Shoji
Superconductivity Research Laboratory International Superconductivity Technology Center
-
Hirabayashi Izumi
Superconductivity Research Laboratory (SRL), International Superconductivity Technology Center (ISTEC), 1-10-13 Shinonome, Koto-ku, Tokyo 135-0062, Japan
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