ダイヤモンド電子放出素子の開発 : 素子の均一形成と大電流化(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
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概要
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これまで我々はダイヤモンドの微細先端の尖鋭加工技術を開発し、ダイヤモンドの電子エミッタに応用することを検討してきた。比較的まとまった面積から大きな電子放出を得るためには、均一に電子を放出させることが重要であると考え、SiON、SiO_2マスクを用いてエミッタ形状や高さの均一性を向上させ、デバイスを一様に形成する工夫を行い、最終的に1mm2の面積から約150mAの放出電流を得ることができた。今回のエミッタは均一性を優先して2インチ多結晶ボロンドープエミッタからの結果であり、作製方法や特性についての報告を行う。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-12-15
著者
-
今井 貴浩
住友電気工業(株)半導体技術研究所
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山本 喜之
住友電気工業株式会社
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今井 貴浩
住友電気工業 半導体研
-
西林 良樹
住友電気工業(株)半導体技術研究所
-
辰巳 夏生
住友電気工業(株)伊丹研究所
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難波 暁彦
住友電気工業株式会社 半導体技術研究所
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山本 喜之
住友電気工業(株)半導体技術研究所
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辰巳 夏生
住友電気工業株式会社 半導体技術研究所
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今井 貴浩
住友電気工業(株)半導体研究所
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