ダイヤモンド電子源の開発 : Pドープダイヤモンドの加工技術と電子放出(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
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概要
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これまで我々はダイヤモンドの微細先端の尖鋭加工技術を開発し、ダイヤモンドの電子エミッタに応用することを検討してきた。またダイヤモンドから電子を引き出すためにはn型膜の方が有利であると考え、n型の候補であるPドープによるエピタキジャル膜を開発した。このPドープ膜を尖鋭加工することによって、比較的良好な電子放出特性を得たので、ここに報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-12-09
著者
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今井 貴浩
住友電気工業(株)半導体技術研究所
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今井 貴浩
住友電気工業 半導体研
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西林 良樹
住友電気工業(株)半導体技術研究所
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辰巳 夏生
住友電気工業(株)伊丹研究所
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難波 暁彦
住友電気工業株式会社 半導体技術研究所
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辰巳 夏生
住友電気工業株式会社 半導体技術研究所
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今井 貴浩
住友電気工業(株)半導体研究所
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