プラスチック光導波路を用いた全平坦面プロセスPLCプラットフォームの試作
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概要
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低温プロセスが可能で酸素プラズマRIEにより微細可能が可能というプラスチックの特徴を利用して、全マスク合わせ工程を平坦面上で行うPLCプラットフォームの製造技術を開発した。基板表面に配線パターンを形成した後光導波路を形成し、最後に電極を露出させるプロセスと一旦マスクを埋め込んだ後エッチングして光素子の高さ合わせのためのペデスタルを形成するプロセスを用いることにより全平坦面プロセスを実現した。製作したプラットフォームに半導体レーザをパッシブアライメント実装し、良好な光結合と良好なシングルモード動作を確認した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-08-28
著者
-
田中 一弘
富士通株式会社
-
田中 一弘
株式会社富士通研究所
-
中川 剛二
富士通株式会社
-
中川 剛二
株式会社富士通研究所
-
成瀬 晃和
株式会社富士通研究所
-
中田 英彦
株式会社富士通研究所
-
田淵 晴彦
株式会社富士通研究所
-
中田 英彦
ソニー株式会社マテリアル研究所光エレクトロニクス研究部
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