電子線露光によるSAWデバイス作製に関する基礎的検討
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概要
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SAWデバイスの急速な発展を受け、その開発サイクルの短縮化が求められている。本研究では、試作に要する時間を短縮するべく、走査型電子顕微鏡(SEM)を応用した電子線露光装置を導入し、ウエットエッチングにより試作を行った。また、電子線露光法によるデバイス作製の応用として、帯電防止剤を用いたリフトオフ法について実験的検討を行った。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-06-29
著者
-
山口 正恆
千葉大
-
山口 正恒
千葉大学工学部:画像技術応用研究委員会
-
大森 達也
千葉大学 工学部 電子機械工学科
-
橋本 研也
千葉大学 工学部 電子機械工学科
-
山口 正恆
千葉大学 工学部 電子機械工学科
-
小澤 寛司
千葉大
-
中込 晶
千葉大学 大学院 自然科学研究科
-
小澤 寛司
千葉大学 大学院 自然科学研究科
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