光学活性基を側鎖に有するポリシランの合成とその構造
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概要
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ヘキシルフェニルポリシランをWurtz法により合成し、Friedel-Crafts反応によりクロロメチル基を導入した。モデル化合物を用いたクロロメチル化の結果からクロロメチル基がパラ位に導入されていることが分かった。さらに、クロロメチル化したポリマーに光学活性なN, N-Dimethyl-α-methyl-benzylamineを作用させて側鎖に光学活性基を有するポリシランを得た。エタノール中でCDスペクトルの吸収が観測されたことからこのポリシランは片方のラセン構造をとっていることが分かった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-05-06
著者
-
鎌田 憲彦
埼玉大学工学部
-
照沼 大陽
埼玉大学工学部
-
鎌田 憲彦
埼玉大 工
-
照沼 大陽
埼玉大学理工学研究科
-
照沼 太陽
埼玉大学工学部機能材料工学科
-
松岡 浩司
埼玉大学・工学部・機能材料工学科
-
松岡 浩司
埼玉大学工学部
-
葛原 弘美
埼玉大学工学部機能材料工学科
-
南雲 公二
埼玉大学工学部機能材料工学科
-
天野 裕貴
埼玉大学工学部機能材料工学科
-
南雲 公二
埼玉大学工学部 機能材料工学科
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