静電塗布法の噴射領域の制御技術(有機デバイス全般・一般)
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概要
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ウェットプロセスを利用した大面積な有機デバイスに関する研究が盛んに行われている。しかし、ウェットプロセスでは有機デバイスの性能改善に重要な積層化や界面形状の制御などの面で課題が多く残されている。我々は、ウェットプロセスでありながら積層構造が作製可能な静電塗布法に関する研究を行ってきた。今回の研究では、静電塗布法を利用した有機デバイス作製に欠かせない成膜領域の制御に関して検討を行った。その結果、有機溶媒の誘電率や双極子モーメントに比例して成膜面積が広がっていく傾向があることが分かった。つまり、静電塗布のプロセスでは静電反発力の制御が塗布面積に重要であることを示した。
- 2010-10-15
著者
-
本多 善太郎
埼玉大院理工
-
本多 善太郎
埼玉大学大学院
-
福田 武司
埼玉大学大学院理工学研究科
-
鎌田 憲彦
埼玉大学工学部
-
鎌田 憲彦
埼玉大学大学院理工学研究科
-
福田 武司
埼玉大学理工学研究科
-
鎌田 憲彦
埼玉大学理工学研究科
-
山形 豊
理化学研究所
-
本多 善太郎
埼玉大学大学院理工学研究科
-
加瀬 究
理化学研究所VCADモデリング
-
加瀬 究
理化学研究所
-
鎌田 憲彦
埼玉大学 大学院理工学研究科
-
山形 豊
理化学研究所中央研究所
-
山形 豊
理化学研究所vcad加工応用チーム
-
福田 武司
埼玉大学
-
鎌田 憲彦
埼玉大 工
-
雷 康斌
理化学研究所ものつくり情報技術統合化研究プログラム部門
-
浅木 裕隆
埼玉大学大学院理工学研究科物質科学部門物質機能領域
-
朱 正明
理化学研究所
-
王 盛
理化学研究所
-
Kamata Norihiko
Atr Optical And Radio Communications Research Laboratories
-
Kamata Norihiko
Department Of Functional Materials Science And Engineering Saitama University
-
朱 正明
理化学研究所vcad加工応用チーム
-
浅木 裕隆
埼玉大学 理工学研究科
-
鎌田 憲彦
埼玉大学大学院理工学研究科物質科学部門物質機能領域
-
雷 康斌
理化学研究所
-
鎌田 憲彦
埼玉大学
-
本多 善太郎
埼玉大学
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