分子線およびレーザー照射による光化学反応性分子膜の作製
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概要
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膜形成後あるいは膜形成中にKrFエキシマレーザーを照射することによって光異性化反応したビス(エチニルスチリル)ベンゼンの分子線蒸着膜に対して,その結晶性・分子配向などの膜の高次構造を調べた。KBr表面にシス-シス体を成長させ,膜形成後に光を照射した場合,光異性化反応によりトランス-トランス体となったが分子構造の変化により非晶質膜となった。これに対して,膜形成中に光を照射した場合,薄膜作製条件の検討によりトランス-トランス体の結晶性配向薄膜が作製可能となった。このように,薄膜作製と光照射を同時に行うことによって,従来の方法では得られない分子構造と高次構造を有する薄膜が得られることが明らかとなった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-07-26
著者
-
蔵田 哲之
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
角田 誠
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
渕上 宏幸
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
中尾 之泰
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
蔵田 哲之
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
谷村 佐知子
三菱電機(株)
-
上原 康
三菱電機(株)材料デバイス研究所
-
上原 康
三菱電機(株)
-
上原 康
三菱電機先端総研
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