レーザー誘起分子間反応を利用した薄膜作製

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概要

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我々は, 有機分子線蒸着にレーザー誘起化学反応を組み合わせた新規な薄膜作製法の開発を行っている。今回, ビス(エチニルスチリル)ベンゼン(BESB)とビフェニルジチオール(BPDT)の分子間反応を利用した薄膜作製について検討した。その結果, 分子末端のエチニル基とビフェニル基の反応により, 単独では堆積しないBPDTはBESBと結合して新規構造の反応生成物として薄膜化した。また, 分子間反応は, レーザー照射量, BESB分子ビーム強度およびBPDT分子ビーム強度の3つの因子で制御され, このうち最も少ないものによって支配されることが分かった。さらに, BESBより過剰の光励起されたBPDTが存在する場合, 反応しないBPDTは再蒸発し, 反応生成物は一定の組成比に自己制御されることが分かった。
社団法人電子情報通信学会の論文
1997-07-23

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