チオフェン/フェニル系オリゴマー薄膜のフォトルミネッセンス
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
π共役系オリゴマーであるα-セクシチエニル(6T)と異種分子との組み合わせによる電子状態の制御の可能性を検討するために, 6Tとは構造が類似でバンドギャップは異なるp-セクシフェニル(6P)との混合膜を作製し, その光物性を吸収及びフォトルミネッセンス(PL)により評価した。混合膜中の6Tの吸収及びPLスペクトルは, 溶液中やPMMA中とは異なる形状となった。スペクトルの解析から、混合膜において6T含有率が低い場合には6T近傍の6Pにより6T中のコンフォメーション変化が抑制されるためと考えられる。また6T含有率の低下に伴い6Tの0-0発光の収率が大幅に向上した。この現象は再吸収効果だけでは説明できず, 6Tと6Pを組み合わせることにより6Tの電子状態の変化が起こることを示唆している。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-09-27
著者
-
蔵田 哲之
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
角田 誠
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
蔵田 哲之
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
浜野 浩司
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
蔵田 哲之
三菱電機先端総研
-
浜野 浩司
三菱電機先端総研
関連論文
- デュアルドメインベンドモードを用いた高速 LCD(表示記録用有機材料及びデバイス・一般)
- レーザー誘起分子間反応を利用した薄膜作製
- チオフェン/フェニル系オリゴマー薄膜のフォトルミネッセンス
- チオフェンオリゴマー薄膜の作製と導波路デバイスへの適用
- 分子線とエキシマレーザーからなる複合反応場でのビス(エチニルスチリル)ベンゼンの薄膜成長
- 機能性材料の分子設計 (特集"シミュレ-ション技術")
- チオフェンオリゴマー薄膜を用いた電界変調型光導波路デバイスの作製
- 分子線およびレーザー照射による光化学反応性分子膜の作製
- Siイオン注入した窒化物半導体上のAlフリーオーミック電極(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- 2003年(平成15年)秋季第64回応用物理学会学術講演会(福岡大学)有機分子・バイオエレクトロニクス大分類分科の報告
- Siイオン注入した窒化物半導体上のAlフリーオーミック電極(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- Siイオン注入した窒化物半導体上のAlフリーオーミック電極(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- デュアルドメインベンドモードを用いた高速 LCD(表示記録用有機材料及びデバイス・一般)
- 金属上のチオフェン6量体の配向と界面構造
- 偏光軟X線吸収分光による有機分子線蒸着法で成膜したα-Sexithienylの分子配向に関する研究
- チオフェンオリゴマー分子配向薄膜の作製と非線形光学特性
- 表面反射を考慮した反射型TN液晶ディスプレイのセルギャップ測定(ディスプレイ〜IDW'02関連〜)
- デュアルドメインベンドモードを用いた高速LCD
- デュアルドメインベンドモードを用いた高速LCD
- デュアルドメインベンドモードを用いた高速LCD
- 液晶ディスプレイと画像信号処理
- 1A04 反射型液晶セルのプレチルト角測定方法(ディスプレイ)
- 2PC16 反射型LCDのセルギャップ測定法
- 2PC01 TN セルのプレチルト角測定方法
- 3B14 IPSモードにおけるリバースツイスト配向状態の解析
- 3D07 有効複屈折を用いた一軸媒質モデルによるIPSモードの解析
- ペリレン誘導体の分子線蒸着におけるビーム空間分布と薄膜の高次構造