角田 誠 | 三菱電機(株)先端技術総合研究所

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関連著者

• 蔵田 哲之

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 角田 誠

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 渕上 宏幸

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 蔵田 哲之

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 中尾 之泰

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 浜野 浩司

  三菱電機先端総研

• 深田 千恵

  三菱電機先端技術総合研究所

• 谷村 佐知子

  三菱電機(株)

• 蔵田 哲之

  三菱電機先端総研

• 浜野 浩司

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 蔵田 哲之

  三菱電機先端技術総合研究所

• 浜野 浩司

  三菱電機先端技術総合研究所

• 角田 誠

  三菱電機先端技術総合研究所

• 和田 理

  三菱電機(株)

• 新納 弘之

  物質工学工業技術研究所

• 矢部 明

  物質工学工業技術研究所

• 蔵田 哲之

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• 深田 千恵

  三菱電機 先端技術総合研究所

• 浜野 浩司

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• 渕上 宏幸

  三菱電機 先端技術総合研究所

• 角田 誠

  三菱電機 先端技術総合研究所

• 上原 康

  三菱電機(株)材料デバイス研究所

• 新納 弘之

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• 角田 誠

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著作論文

• レーザー誘起分子間反応を利用した薄膜作製
• チオフェン/フェニル系オリゴマー薄膜のフォトルミネッセンス
• チオフェンオリゴマー薄膜の作製と導波路デバイスへの適用
• 分子線とエキシマレーザーからなる複合反応場でのビス(エチニルスチリル)ベンゼンの薄膜成長
• 機能性材料の分子設計 (特集"シミュレ-ション技術")
• チオフェンオリゴマー薄膜を用いた電界変調型光導波路デバイスの作製
• 分子線およびレーザー照射による光化学反応性分子膜の作製

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