CMOS反応拡散回路によるチューリングパターンの発生
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概要
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チューリング反応拡散系のパターン形成機能を搭載したCMOS集積回路の構成法を提案する。この集積回路は化学反応を模擬する「反応回路」と物質拡散を模擬する「拡散回路」を多数接続した構造を持つ。その機能は一種の空間周波数フィルタであり、紋様画像などの修復や強調の処理に応用することができる。
- 2002-03-09
著者
-
浅井 哲也
北海道大学 大学院 情報科学研究科
-
雨宮 好仁
北海道大学 大学院 情報科学研究科
-
西宮 優作
北海道大学 工学部 電子工学科
-
大黒 高寛
北海道大学工学部
-
西宮 優作
北海道大学工学部電子工学科
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