陽極化成シリコン表面に形成されるナノ構造パターンのフラクタル解析
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概要
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シリコンを陽極として沸酸中で電気化学的にエッチング(陽極化成)すると、条件によってエッチング界面は不安定化し多孔質シリコンが得られる場合と、安定で平滑な界面が得られる場合とがある。本研究では、過電圧を制御して陽極化成を行ない、界面の安定性が遷移する点では過電圧に対する電流増加率が不連続的に変化し、この性質は沸酸濃度に依存しない事が明らかになった。そらに遷移点近傍で、シリコン表面に自己アフィンな構造が形成される事を見出し、その形状をハースト指数によって特徴づけた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-12-16
著者
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