有機ポリシラン膜を用いた金属パターン形成

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概要

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ポリシランは主鎖のσ電子が非局在化したσ共役高分子であり、この特性を活かすことによって次世代の機能材料として注目されている。我々は、ポリシランのこのような特性を生かして、加工性に優れた金属並以上の導電材料化及びその応用研究を行ってきた。この結果、ポリシランの種類を使い分けることによって、ネガ、ポジ両タイプのポリシランのパターンを描くことができ、また、ポリシランの化学的性質を生かした銀塩の還元によって10^3S/cm以上の、また、パラジウム塩の還元によって生成する金属コロイドを触媒として銅塩等を用いた無電解メッキすることによって、10^5S/cm以上の導電率が得られた。また、これより導電回路等への応用等新規用途の提案を行った。
1999-09-21

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