ポリシランの電気化学的ドーピングとその光学的挙動
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概要
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ポリシラン膜の新しい導電化法として電気化学的酸化ドーピング法を検討し、水素含有ポリシランを用い3×10^<-2>S/cm、アミノ基含有ポリシランを用い1×10^<-3>S/cmの導電率が得られ、同時に可視部に新しい吸収が現われた。この時の光学的挙動について、同一側鎖基のポリシロキサンと比較することにより、側鎖基と主鎖の役割について検討したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-05-06
著者
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森 滋
信越化学工業, シリコーン電子材料技術研究所
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森 滋
信越化学工業(株)シリコーン電子材料技術研究所
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荒又 幹夫
信越化学工業(株)群馬事業所
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福島 基夫
信越化学工業(株)シリコーン電子材料技術研究所
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福島 基夫
信越化学工業(株)
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