低アスペクト比660nm高出力AlGaInP赤色半導体レーザ(<特集>光記録技術及び一般)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
端面窓構造を有する660nm帯AlGaInP半導体レーザにおいて、高出力化とレーザ光放射形状のアスペクト比の低減を同時に出現した。垂直方向の光閉じ込めを制御して垂直広がり角を変化させた場合の内部損失の検討結果に基づき、電流ブロック層にAlInP層を用いた実屈折率導波構造を採用した。アスペクト比1.65(垂直広がり16.5°/水平広がり角10°)の素子において、パルス駆動時に、キンクレベル〜160nW、最大光出力〜180mWを実現した。また、本素子は、60℃寿命試験において、光出力90mWでパルス駆動した場合、1500時間以上安定に動作することを確認した。
- 2001-09-14
著者
-
上田 康博
三洋電機(株)半導体研究所光エレクトロニクス研究部半導体材料研究室
-
澤田 稔
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
井上 大二朗
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
庄野 昌幸
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
広山 良治
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
庄野 昌幸
三洋電機
-
野村 康彦
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
井上 大二郎
三洋電機
-
野村 康彦
三洋電機
-
上田 康博
三洋電機(株)半導体研究所
関連論文
- 高光度SiC青色LEDの開発とフルカラーLEDランプへの応用(Japan Display'89)
- 新ヘテロ接合素子 : TMT(2モードチャネルFET)
- MOMBE法を用いたラテラルエピタキシによるGaAs量子細線構造の作製とその評価
- III-V族化合物半導体成長のμ-RHEED実時間観測
- 29p-C-3 μ-RHEED法によるGaAs成長表面の実時間観測
- RGBマルチカラーLEDディスプレイの開発 : 発光型ディスプレイ関連 : 情報ディスプレイ
- 7)RGBマルチカラーLEDディスプレイの開発(情報ディスプレイ研究会)
- 5)SiC発光素子とその応用(〔情報入力研究会 情報ディスプレイ研究会〕合同)
- SiC発光素子とその応用
- 高調波処理による高効率線形増幅器への新しいアプローチ
- 高調波処理による高効率線形増幅器への新しいアプローチ
- 高調波処理による高効率線形増幅器への新しいアプローチ
- 高調波処理による高効率線形増幅器への新しいアプローチ
- プレーナ型TMTのX帯発振器への応用
- 低アスペクト比660nm高出力AlGaInP赤色半導体レーザ(光記録技術及び一般)
- 高密度光ディスク用630nm帯赤色半導体レーザ
- 高密度光ディスク用630nm帯赤色半導体レーザ
- 記録型次世代DVD用高出力青紫色レーザ
- 光ディスク用高出力青紫色半導体レーザ(特別セッションテーマ: GaN系LEDの内部量子効率を決めているものは?, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
- 光ディスク用高出力青紫色半導体レーザ(特別セッションテーマ: GaN系LEDの内部量子効率を決めているものは?, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
- 光ディスク用高出力青紫色半導体レーザ(特別セッションテーマ: GaN系LEDの内部量子効率を決めているものは?, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
- 低電流動作200mW高出力AlGaInP赤色レーザ
- GaN基板上に成長した高出力青紫色半導体レーザ(光記録・一般)
- 光ディスク用半導体レーザー
- 光ディスク用半導体レーザー
- 耐熱性に優れたチャネルを有するプレーナ型TMT
- 高速記録CD-R用高出力赤外半導体レーザ (ディジタル情報家電特集(2))
- 記録型次世代DVD用高出力青紫色レーザ (Harmonious Society特集)
- SiC青紫色発光ダイオードの製法と特性
- ECRプラズマCVDシリコン窒化膜の特性
- ポリイミド膜の多層化MMICへの適用