低電流動作200mW高出力AlGaInP赤色レーザ
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概要
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We have newly introduced a two-step-growth structure and a ridge stripe with steep sidewalls formed with a dry-etching process in the fabrication of a buried ridge stripe structure of a high-power 660 nm laser diode instead of a conventional three-step-growth structure and a ridge stripe with gentle sidewalls formed with a conventional wet-etching process in order to reduce the operating current. We have found that the two-step-growth structure provides better heat dissipation and the dry-etched ridge stripe structure offers higher characteristic temperature. The operating current under pulsed 200 mW at 70°C of the fabricated laser diode is 270 mA. This is the lowest value ever reported so far, to our knowledge. These laser diodes exhibit a kink level and a maximum light output power of 220 mW and higher than 300 mW, respectively. These laser diodes have also operated stably for 1500 h at 70°C with a light output power of 200 mW under the pulsed condition.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2005-02-01
著者
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亀山 真吾
三洋電機株式会社アドバンストデバイス研究所
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井上 大二朗
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
庄野 昌幸
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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庄野 昌幸
三洋電機
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田尻 敦志
三洋電機(株)技術開発本部 マテリアル・デバイス技術開発センタービジネスユニット
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亀山 真吾
三洋電機(株)技術開発本部 マテリアル・デバイス技術開発センタービジネスユニット
-
廣山 良治
三洋電機(株)技術開発本部 マテリアル・デバイス技術開発センタービジネスユニット
-
井上 大二朗
三洋電機
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