400mW級GaN系青紫色半導体レーザ(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
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概要
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青紫色レーザを光源とするBlu-rayディスクシステムの高速記録化・多層記録化の開発が進展している。これらのシステムを実現するために、青紫色レーザの高出力化が強く要請されている。今回、新規端面保護膜構造の導入および長共振器化と同時に内部損失の低減を図ることにより、電流-光出力特性において、スロープ効率低下による動作電流の上昇を低減し、光出力450mW以上(25〜80℃、パルス発振)のキンクフリーの特性を得た。また、光出力450mW(80℃、パルス駆動)において1000時間以上安定に動作することを確認した。
- 2008-11-20
著者
-
亀山 真吾
三洋電機株式会社アドバンストデバイス研究所
-
久納 康光
三洋電機株式会社アドバンストデバイス研究所
-
井下 京治
三洋電機株式会社アドバンストデバイス研究所
-
井上 大二朗
三洋電機株式会社アドバンストデバイス研究所
-
別所 靖之
三洋電機株式会社アドバンストデバイス研究所
-
後藤 壮謙
三洋電機株式会社アドバンストデバイス研究所
-
國里 竜也
三洋電機株式会社アドバンストデバイス研究所
-
國里 竜也
三洋電機
-
別所 靖之
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
-
井下 京治
三洋電機
-
後藤 壮謙
三洋電機
-
久納 康光
三洋電機
-
井上 大二朗
三洋電機
-
別所 靖之
三洋電機
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