ブリュアン光散乱法を用いたSiC薄膜の非破壊評価
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概要
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ブリュアン散乱法を用いて、SiC薄膜の表面波音速を測定した。まず、表面凹凸散乱の測定精度を確認するためSi表面のレイリー波、Si基板上にAl膜を蒸着した試料上の変形レイリー波を測定した。実際に、立方晶、六方晶と推定される2種類のSiC薄膜において、音速が異なることが確認された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-06-13
著者
-
松川 真美
同志社大学
-
木内 正人
大阪大学大学院工学研究科原子分子イオン制御理工学センター
-
松本 貴士
産業技術総合研究所環境化学技術研究部門
-
木内 正人
産業技術総合研究所環境化学技術研究部門
-
松本 貴士
大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設
-
大谷 隆彦
同志社大学工学部
-
木内 正人
産業技術総合研
-
大谷 隆彦
同志社大学工学部電機工学科
-
村田 哲志
同志社大学工学部
-
木内 正人
大阪大学大学院工学研究科,超高温理工学研究施設
-
松本 貴士
大阪大学大学院工学研究科
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