直線状***ージョンマグネトロンスパッタリングによる(112^^-0)配向ZnO圧電膜の大面積成膜
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概要
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これまで,円形***ージョンを有したRFマグネトロンスパッ装置を用いた(112^^-0)ZnO圧電膜の作製の報告がなされている.しかしこの場合は基板上の微小な領域でしか十分に配向せず,またc軸がウェハ面内で放射状に配向するといった課題があった.今回,我々は直線***ージョンをもったスパッタ陰極を用いることで,基板の広範囲で良好な結晶性を有し,かつ圧電軸が同一方向に配向した(112^^-0)配向ZnO圧電膜の作製に成功したため,その結果を報告する.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-09-22
著者
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渡辺 好章
同志社大学生命医科学部
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松川 真美
同志社大学
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柳谷 隆彦
名古屋工業大学
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松川 真美
同志社大学工学研究科
-
佐々木 昌
オムロン株式会社技術本部
-
佐々木 昌
オムロン(株)先端デバイス研究所
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佐々木 昌
オムロン株式会社 中央研究所
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森 嘉一
オムロン株式会社技術本部
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大場 正利
オムロン株式会社技術本部
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川本 貴之
同志社大学生命医科学研究科
-
川本 貴之
同志社大学生命医科学研究科:オムロン株式会社技術本部
-
渡辺 好章
同志社大学
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大場 正利
オムロン株式会社
-
佐々木 昌
オムロン株式会社
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