高飽和磁化かつ低SULノイズ特性導出のための窒素添加Fe-Si-Al微結晶軟磁性材料の検討(垂直記録,一般)
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概要
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高飽和磁化と低SULノイズ特性とを両立する微結晶軟磁性裏打ち膜の材料探査のため,窒素添加を施したセンダストのセカンドピーク組成近傍膜について検討した.また,得られたFeSiAlN膜を用いて反強磁性/軟磁性(AFM/FM)積層裏打ち膜を作製し,高浮遊磁界耐性化裏打ち膜の材料課題について検討した結果,以下のことが明らかとなった.(1)窒素添加FeSiAlN膜の膜組成は,窒素流量比の増加につれて,Si+Alの濃度一定線上でFeとNが置換していく方向へと変化する.(2)FeSiAlN膜は窒素添加にともない,ナノクリスタル効果により軟磁性を示す.(3)FeSiAlN膜は結晶粒の微細化にともない,SULノイズが低減するため,低温プロセス対応裏打ち膜として有望である.(4)AFM/FM積層裏打ち膜において,今回検討した材料系の範疇では,積層界面に働く交換結合力が裏打ち膜の総磁化量の増加にともない低下してしまう.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-06-05
著者
-
斉藤 伸
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
平井 健一
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
高橋 研
東北大学未来共同科学研究センター
-
橋本 篤志
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
斉藤 伸
東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻
-
斉藤 伸
東北大学大学院 工学研究科
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