基板加熱成膜によるc面配向Coスパッタ薄膜の完全六方晶化(記録媒体、一般)
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概要
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基板加熱がc面配向Coスパッタ薄膜の原子積層構造に及ぼす効果について評価し,原子積層構造と一軸結晶磁気異方性定数(K_u)との相関について解析した.具体的には,In-plane X線回折法を用いて薄膜中に形成される積層欠陥の導入度合いを定量評価し,磁気特性と積層構造との相関を詳細に検討したところ,以下のことが明らかとなった.(1)c面配向Coスパッタ薄膜においては,室温成膜では積層欠陥として局所的なfcc積層を10%程度含んだ六方晶原子積層構造が形成される.400℃の基板加熱成膜では積層欠陥の導入度合い(P_<fcc>)が0.1%以下となり,ほぼ完全にhcp積層した薄膜が形成される.(2)基板温度を変化させても飽和磁化(M_s)は変化しない一方で,K_uは大きく変化し400℃において6.1×10^6 erg/cm^3の極大を示す.(3)垂直磁気トルク曲線を2回および4回対称成分に分離してK_<u1>,K_<u2>を解析したところ(K_u=K_<u1> + K_<u2>), P_<fcc>=7-10%ではK_<u2>が支配的だがP_<fcc> = 2.5%付近でK_<u1>とK_<u2>の値がほぼ等しくなり,P_<fc> = 0%近傍ではK_<u1>の方がK_<u2>よりも増大した.(4)したがってc面配向Coスパッタ薄膜の基板加熱成膜は,磁性結晶粒中の積層欠陥を排除し完全六方晶原子積層構造を形成させるための有効な手法であり,これによりCoスパッタ薄膜にもバルクの文献値(K_u = 5.97×10^6 erg/cm^3)に匹敵する一軸結晶磁気異方性エネルギーを発現させ得ることを見出した.
- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2012-07-12
著者
-
斉藤 伸
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
高橋 研
東北大学未来共同科学研究センター
-
日向 慎太朗
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
高橋 研
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
高橋 研
東北大
-
斉藤 伸
東北大学大学院 工学研究科
-
野沢 直樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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