高速イオン散乱法によるSi(111)面上へのAg-island成長の観察 : 表面・界面

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概要

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• 日本結晶成長学会の論文
• 1983-06-25

著者

• 岩見 基弘

  阪大工

• van Loenen

  FOM研究所(アムステルダム)

• Tromp R.M.

  FOM研究所(アムステルダム)

• Saris F.W.

  FOM研究所(アムステルダム)

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