紫外線を照射したブドウ果皮におけるリスベラトロール合成の誘導

概要

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3ブドウ栽培品種(マスカット・ベリーA,シャルドネ,甲州)の果実に紫外線(254nm, UV-C)を照射し,果皮に誘導されるリスベラトロールとその合成に関連した酵素遺伝子の発現レベルを測定した.UV照射によりブドウ果皮のリスベラトロール濃度は著しく増加した.この増加は,果実の成熟がはじまるベレゾーン前の果実で大きく,ベレゾーン後の果実で小さかった.マスカット・ベリーAのリスベラトロール誘導量が3品種のなかで最も大きかった.紫外線照射8時間後のスチルベンシンターゼ(STS),フェニルアラニンアンモニアリアーゼ(PAL),カルコンシンターゼ(CHS)遺伝子のmRNA発現レベルを定量RT-PCR法により測定した.STSとPAL遺伝子のmRNA発現レベルは紫外線照射により増加した.リスベラトロール合成のキー酵素であるSTSのmRNA発現レベルは,全ての採取時期において,マスカット・ベリーAのほうがシャルドネに比べて大きかった.一方,紫外線照射後のCHS遺伝子のmRNAレベルはベレゾーン前の果実では減少したが,ベレゾーン後の果実では増加し,STS遺伝子の発現とは異なった挙動を示した.
2004-05-15