チャ葉の光合成阻害における光と低温の相互作用

概要

論文の詳細を見る
チャ葉の光合成阻害における光と低温の相互作用について検討した. 他の葉で遮断されている越冬葉の光合成速度は遮蔽されていない葉よりも高く(第1表), 低温阻害に光強度が関係することが予想された. そこで, 葉ディスクまたは個葉を用いて明下(12klx), 12℃の低温処理を2日間行なうと, 光合成速度と光飽和のヒル反応活性はともに対照(20℃)の60%に低下した. そのとき, 光強度を25%遮光すると, これらの低下の程度は小さかった(第2図). また, ほ場で生育している茶樹を冬季間, 寒冷紗で遮光しても, 光合成速度は高い値で推移した(第4図). これらの結果から, チャ越冬葉の光合成低温阻害は光障害により起きることが示唆された. 以上の結果は人為的な遮光処理によりチャ越冬葉の光合成低温阻害を軽減できることを示唆している. 実際, 寒冷紗による遮光で越冬葉の光合成は遮光期間中も除去した後も高く保たれ, 一番茶の収量の増加も認められた(第5〜7図).
日本作物学会の論文
1986-12-05