レーザを用いたリソグラフィ用マスクアライナの開発
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概要
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Precision linear-position control using moire signals have been investigated for a mask-alignment on the lithographic processes. Differential moire technique using two grating pairs 180°out of phase was used. With the reduction of the noises, and improvement of the stability of the laser out put power, the linear-alignment accuracy of ±4nm was obtained. Furthermore, rotational-position control using differential moire technique has been investigated. The rotational-alignment accuracy of ±4×(10)^<-7> rad has been obtained.
- 愛知工業大学の論文
著者
-
古橋 秀夫
愛知工業大学情報通信工学専攻
-
古橋 秀夫
愛知工業大学 電気学科 情報通信工学専攻
-
古橋 秀夫
愛知工大
-
劉 京南
東南大学
-
周 礼中
揚州大学
-
周 礼中
愛知工業大学
-
古橋 秀夫[他]
愛知工業大学工学部情報通信工学科
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