表面分析が産業界に果たした役割
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2011-05-10
著者
-
福島 整
科学技術庁無機材質研究所
-
福島 整
無機材研
-
福島 整
独立行政法人物質・材料研究機構 ナノ計測センター先端表面化学分析グループ
-
田沼 繁夫
独立行政法人物質・材料研究機構 ナノ計測センター先端表面化学分析グループ
-
田沼 繁夫
独立行政法人物質・材料研究機構
-
福島 整
無機材質研究所
-
田沼 繁夫
物質・材料研究機構ナノ計測センター
-
福島 整
物質・材料研究機構
-
田沼 繁夫
物質・材料研究機構
関連論文
- 半球型電子分光器を搭載したオージェ電子分光装置のジオメトリー特性と傾斜ホルダーを利用した超高深さ分解能オージェ深さ方向分析 (第34回表面分析研究会講演資料)
- Cu-rich 融液から育成したBi-2212超伝導単結晶の光電子分光
- 数値データの取り扱い--四捨五入から検出限界まで(第1回)データの丸め方と誤差の基礎
- 多元高周波マグネトロンスパッタ法による高品質Bi_2Sr_2CaCu_2O_y超伝導薄膜の作製
- 22aPS-73 光電子分光法による鉄-チタン酸化物の電子状態
- 31pXF-6 エピタキシャル FeTiO_3 薄膜の電子状態
- SPring-8における高エネルギー光電子顕微鏡の開発研究
- Heガスを用いたBi_2Sr_2Ca_Cu_nO_yスパッタ薄膜の組成制御
- 無機材質研究所専用ビームラインと高分解能蛍光X線分析による状態分析
- シンクロトロン放射光を利用した材料解析
- 22pRF-7 高分解能用X線スペクトル分光装置の開発とその評価(原子・分子,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 27pXN-12 Ti Kβ X線輻射スペクトルにおける化学結合効果(原子・分子)(領域1)
- IUVSTA Scientific and Technical Divisions (STD) の報告
- フィールド・エミッション電子銃を搭載した波長分散型サブミクロンEPMAの開発
- 二酸化シリコン薄膜(SiO_2)の電子線照射損傷を定量的に評価する
- EPMA散布図分析を応用したNi-P無電解メッキとはんだ接合域の解析(I)
- 超軟X線分光におけるLi Kα強度への化学状態の影響
- 電子線励起超軟X線分光分析装置の開発
- プロジェクト報告 スペクトル強度分散評価ラウンドロビンテスト(第1報) (2009年度実用表面分析講演会(PSA-09)講演資料)
- 高分解能蛍光X線分光法を用いた浅間火山岩中のFeの化学状態分析
- 希ガスイオン照射したC60のX線分光解析
- 高エネルギー放射光による内殻準位変化の観測
- ニューラルネットワークの化学分析への適用
- XPSによる表面分析入門
- ラボ用硬X線光電子分光装置の開発
- 実用電子分光法講座 第2回講義メモ(1993.5.31) (特集:VAMAS-SCA Japan復刻版(1989,1994)) -- (実用電子分光法講座(1994年1月))
- 実用電子分光法講座 第一回講義メモ(1993.2.4) (特集:VAMAS-SCA Japan復刻版(1989,1994)) -- (実用電子分光法講座(1994年1月))
- XPSにおて発生分布の非対称に与える弾性散乱効果の検討
- フィールド・エミッション電子銃を搭載した波長分散型サブミクロンEPMAの開発
- 多元高周波マグネトロンスパッタ法によるBi_2Sr_2Ca_Cu_nO_y超伝導薄膜の作製
- プロジェクト報告 スペクトル強度分散評価ラウンドロビンテスト(第2報)装置特性のパラメータ化 (第34回表面分析研究会講演資料)
- 電子線照射によるSiO_2/Si試料損傷の低エネルギーオージェピークを用いた定量的評価
- AESによるSiO2/Si試料表面の電子線照射損傷評価〔含 質疑〕
- AESによる非破壊計測--Si/BN多層膜 (表面分析研究会 第35回研究会 講演資料)
- 先端追跡
- 先端追跡
- 先端追跡
- 標準物質と表面分析の標準化(1) (表面分析研究会 第35回研究会 講演資料)
- 数値データの取り扱い--四捨五入から検出限界まで(第2回)平均値,区間推定と棄却検定
- VAMAS活動における日中韓3カ国国際協力の会議報告
- Calculations of electron inelastic mean free paths (9) Data for 41 elemental solids over the 50 eV to 30 keV range (2009年度実用表面分析講演会(PSA-09)講演資料)
- 話題 ISOにおけるAESのエネルギー軸校正法
- XPSエネルギー軸目盛りの較正法に関するISO規格"表面化学状態分析-X線光電子分光装置-エネルギー軸目盛りの較正(ISO15472)"
- 放射光を用いた低温高圧下での構造変化に関する研究 (特別企画 原子力基盤クロスオ-バ-研究の現状と今後の展開-7 最終回-放射線ビ-ム利用先端計測・分析技術分野について 7-2 高輝度放射光の先端利用のための基盤技術の研究開発)
- 電子分光法による表面分析の動向
- 表面分析が産業界に果たした役割 (特集 表面科学はいかに産業界に寄与してきたか)
- スペクトル強度分散評価--XPSでのRRTの最終報告、およびAESでの予備検討の現状 (表面分析研究会 第36回研究会 講演資料)
- 分析におけるソフトウェアII デ-タ処理の基礎知識:フ-リエ変換
- X線分析
- 東京理科大学理学部古谷研究室を訪ねて
- 表面分析の復権
- オージェ電子分光法, X線光電子分光法による表面定量分析の国際標準化
- 電子分光法による表面分析における信号強度の減衰
- X線光電子分光法およびオージェ電子分光法による定量分析の標準化
- 電子分光法の標準化
- 表面電子分光法における電子の散乱効果の研究
- X線光電子分光法における有機化合物のX線照射試料損傷評価法の開発.ラウンドロビン試験結果
- オージェ電子分光法、X線光電子分光法 (解説 ISO/TC201表面化学分析の現状と動向)
- 多元高周波マグネトロンスパッタ法によるBi_2Sr_2Ca_Cu_nO_y超伝導薄膜の作製
- 坩堝回転機構付垂直ブリッジマン法で育成したBi_2Sr_2CaCu_2O_y超伝導単結晶の光電子分光
- 原子間力顕微鏡を用いたReRAMフィラメントの物性解析(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- 表面分析が産業界に果たした役割
- 講義 表面電子分光法における信号の減衰は如何に記述されるか?(3)XPSおよびAESによる表面定量分析法
- 表面電子分光法における信号の減衰は如何に記述されるか?(2)誘電関数とIMFP
- 表面電子分光法における信号の減衰は如何に記述されるか?(1)概要
- PSA-01(Practical Surface Analysis 2001)
- 信号の脱出過程の基礎 (特集:VAMAS-SCA Japan復刻版(1989,1994)) -- (実用電子分光法講座(1994年1月))
- 関根哲氏をしのぶ
- 掲示板 ノイズの振る舞いの定量的表現(プロジェクト化の検討)
- データ処理に必要な関数の基礎 (特集:VAMAS-SCA Japan復刻版(1989,1994)) -- (実用電子分光法講座(1994年1月))
- 23aJA-4 X線発光分光法を用いた吸収端評価(23aJA X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 傾斜試料ホルダーを用いた極低角度電子・イオン入射による超高深さ分解能オージェ深さ方向分析
- オージェ電子分光法における背面散乱補正(1)広い分析条件で使用可能な電子の背面散乱補正式の開発
- 10eV-300eVにおける弾性散乱電子強度における実測値とモンテカルロ法による計算値の比較 (表面分析研究会 第37回研究会 講演資料)
- VAMAS-電子ビーム損傷ラウンドロビン試験報告 : 最終報告に向けての検討 (第38回表面分析研究会講演資料)
- 物質・材料研究機構中核機能部門における計測・分析・解析技術 (特集 ナノテク開発を支える計測・分析・解析技術) -- (共用施設の実績と課題)
- 感度係数法による表面定量分析の現状と課題 (第38回表面分析研究会講演資料)