CoFeB/MgO/CoFeB磁気トンネル接合の絶縁破壊特性とそのメカニズム
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概要
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- 2009-07-09
著者
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杉山 芳弘
富士通研究所 シリコンテクノロジ開発研究所
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杉山 芳弘
(株)富士通研究所基盤技術研究所
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青木 正樹
(株)富士通研究所
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青木 正樹
富士通研究所 シリコンテクノロジ開発研究所
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青木 正樹
富士通株式会社ソフトウェア事業本部
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吉田 親子
富士通研
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吉田 親子
富士通研究所 基盤技術研究所 シリコンデバイス研究部
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吉田 親子
(株)富士通研究所
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倉澤 正樹
(株)富士通研究所
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李 永〓
(株)富士通研究所
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角田 浩二
(株)富士通研究所
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杉山 芳弘
(株)富士通研究所
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