ECR励起マグネトロン・スパッタリングによるTa_2O_5薄膜の形成
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概要
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- 1995-11-27
著者
-
村田 雄一
山梨大学・工学部・電子情報工学科
-
中川 恭彦
山梨大学・工学部・電子情報工学科
-
松沢 秀典
山梨大工
-
中前 征司
山梨大学・工学部・電子情報工学科
-
助川 俊光
山梨大学・工学部・電子情報工学科
-
秋津 哲也
山梨大学・工学部・電子情報工学科
-
松沢 秀典
山梨大学・工学部・電子情報工学科
-
荻野 貴史
山梨大学・工学部・電子情報工学科
-
松沢 秀典
山梨大・工
-
秋津 哲也
山梨大学工学部
-
松沢 秀典
山梨大
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