RF SiH_4プラズマ中の電子密度・温度に対する希釈ガスXe, Ar, He, H_2の効果
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概要
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- 1995-11-27
著者
-
後藤 俊夫
名古屋大学 工学研究科量子工学専攻
-
河野 明廣
名古屋大学
-
河野 明廣
名古屋大
-
後藤 俊夫
Imram Tohoku University
-
野村 秀次
名古屋大学
-
後藤 俊夫
名古屋大学
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