磁気中性線放電プラズマによるSiO2膜の高速エッチング
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概要
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- 1995-09-08
著者
-
伊藤 正博
日本真空技術株式会社
-
林 俊雄
名古屋大学プラズマナノ工学研究センター
-
林 俊雄
日本真空技術(株)技術開発部
-
陳 巍
日本真空技術(株)半導体技術研究所
-
内田 岱二郎
日本真空技術(株)半導体技術研究所
-
内田 岱二郎
日本真空技術
-
林 俊雄
日本真空技術
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