陳 巍 | 日本真空技術(株)半導体技術研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 日本真空技術(株)半導体技術研究所の論文著者

関連著者

• 林 俊雄

  名古屋大学プラズマナノ工学研究センター

• 林 俊雄

  日本真空技術(株)技術開発部

• 陳 巍

  日本真空技術(株)半導体技術研究所

• 内田 岱二郎

  日本真空技術(株)半導体技術研究所

• 内田 岱二郎

  日本真空技術

• 林 俊雄

  日本真空技術

• 伊藤 正博

  日本真空技術株式会社

• 森川 泰宏

  (株)アルバック・半導体電子技術研究所

• 森川 泰宏

  日本真空技術(株)半導体技術研究所

• 安沢 慎児

  日本真空技術(株)半導体技術研究所

• 坪井 秀夫

  日本真空技術株式会社

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著作論文

• 低圧, 高密度NLDプラズマと有機Low-kエッチングプロセス
• 4. 磁気中性線放電 (NLD) プラズマ : プロセス用の新しい高密度プラズマの生成と診断 IV
• 磁気中性線放電プラズマによるSiO2膜の高速エッチング

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