内田 岱二郎 | 日本真空技術

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概要

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関連著者

• 内田 岱二郎

  日本真空技術

• 内田 岱二郎

  日本真空技術(株)半導体技術研究所

• 林 俊雄

  名古屋大学プラズマナノ工学研究センター

• 林 俊雄

  日本真空技術(株)技術開発部

• 陳 巍

  日本真空技術(株)半導体技術研究所

• 井門 俊治

  埼玉大工

• 林 俊雄

  日本真空技術

• 内田 岱二郎

  東大工

• 川上 一郎

  日大理工

• 井門 俊治

  東大工

• 伊藤 正博

  日本真空技術株式会社

• 平野 洋一

  電総研

• 森川 泰宏

  (株)アルバック・半導体電子技術研究所

• 森川 泰宏

  日本真空技術(株)半導体技術研究所

• 安沢 慎児

  日本真空技術(株)半導体技術研究所

• 坪井 秀夫

  日本真空技術株式会社

• 中村 康介

  埼玉大工

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著作論文

• 31a-CC-1 2次元・3次元トロイダルピンチのシミュレーション (III)
• 12a-K-1 トロイダル・ピンチのシミュレーションII
• 低圧, 高密度NLDプラズマと有機Low-kエッチングプロセス
• 4. 磁気中性線放電 (NLD) プラズマ : プロセス用の新しい高密度プラズマの生成と診断 IV
• 磁気中性線放電プラズマによるSiO2膜の高速エッチング
• 磁気中性線におけるプラズマ生成シミュレーション
• 磁気中性線放電プラズマ(意)-プラズマの特徴-
• 核融合とハルマケドン

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