Soft X-Ray Absorption and Emission Study of Silicon Oxynitride/Si(100) Interface

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概要

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• Japan Society of Applied Physicsの論文
• 2007-01-25

著者

• 原田 慈久

  東大院工:東大放射光機構:理研:spring-8

• HARADA Yoshihisa

  RIKEN/SPring-8

• TOKUSHIMA Takashi

  RIKEN/SPring-8

• Mukai K

  Univ. Tokyo Chiba Jpn

• Shin S

  Riken/spring-8

• Shin Shik

  The Institute For Solid State Physics The University Of Tokyo

• YAMASHITA Yoshiyuki

  The Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo

• OGUCHI Kazuhiro

  The Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo

• MUKAI Kozo

  The Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo

• YOSHINOBU Jun

  The Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo

• TAMURA Naoyoshi

  Advanced Process Development Department, C2-Project Div., Fujitsu Laboratories Ltd.

• NOHIRA Hiroshi

  Department of Electrical and Electronic Engineering, Musashi Institute of Technology

• HATTORI Takeo

  Research Center for Silicon Nano-Science, Musashi Institute of Technology

• Shin S

  The Institute For Solid State Physics The University Of Tokyo

• Tamura Naoyoshi

  Advanced Process Development Department C2-project Div. Fujitsu Laboratories Ltd.

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