半導体露光装置のステージ格子計測法
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概要
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The XY stage of a semiconductor lithography equipment is also used for measuring distortion aberrations. In such a use, it is necessary to bring the stage grid as close to optimality as possible. However, because there was no method available for measuring the stage grid directly on the target, a method for measuring the stage grid from the value of the contiguity superposition mark was devised, based on the 2D least square serial two point method. In this paper, measurement principles are presented and measurement accuracy is investigated by using simulation to examine mark measurement errors. Simulation results show an improvement in the stage grid measurement when the proposed measurement method is used.
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 2005-06-05
著者
-
品野 勇治
東京農工大学
-
品野 勇治
東京農工大学院共生科学技術研究部
-
深川 容三
キヤノン株式会社
-
深川 容三
キヤノン(株)
-
中森 眞理雄
東京農工大学
-
中森 眞理雄
東京農工大 大学院共生科学技術研究院
-
中森 眞理雄
東京農工大学 工学府情報工学専攻
-
中森 真理雄
東京農工大学工学部数理情報工学科
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