MOCVDによる強誘電体PZT薄膜キャパシタの作製 : 成膜安定性と前後プロセス依存性
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概要
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- 2005-03-04
著者
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木村 勲
アルバック半導体技術研究所
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増田 健
株式会社アルバック半導体技術研究所
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西岡 浩
株式会社アミノアップ化学
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神保 武人
アルバック半導体技術研究所
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木村 勲
株式会社アルバック半導体技術研究所
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菊地 真
株式会社アルバック半導体技術研究所
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梶沼 雅彦
株式会社アルバック半導体技術研究所
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神保 武人
株式会社アルバック半導体技術研究所
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植田 昌久
株式会社アルバック半導体技術研究所
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遠藤 光広
株式会社アルバック半導体技術研究所
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小風 豊
株式会社アルバック半導体技術研究所
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鄒 紅〓
株式会社アルバック半導体技術研究所
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