強誘電体キャパシタの高温エッチング開発(物性,成膜,加工,プロセス : 強誘電体薄膜とデバイス応用)

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概要

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• ハードマスクを用いた高温・高反応性でのエッチング技術を盛り込んだFeRAMキャパシタ部パターニングツールとして、プラズマエッチング装置【ULHITE NE-FeRAM シリーズ】を開発した。パターン側面デポフリーで、パターン形状角度80°以上のプロファイルでの一括エッチングを実現している。数百枚のノンストップエッチングマラソンテストでは、装置パフォーマンスとエッチングプロセス(エッチング速度や形状プロファイル、パターン寸法など)の高い信頼性と再現性が証明された。これらの結果は、次世代FeRAM生産に有望であることを示している。

• 2003-03-11

著者

• 鄒 紅コウ

  アルバック半導体技術研究所

• 植田 昌久

  株式会社アルバック半導体技術研究所

• 遠藤 光広

  株式会社アルバック半導体技術研究所

• 鄒 紅コウ

  (株)アルバック半導体技術研究所

• 鄒紅 コウ

  (株)アルバック半導体技術研究所

• 遠藤 光広

  (株)アルバック 半導体技術研究所

• 植田 昌久

  (株)アルバック 半導体技術研究所

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