強誘電体MEMS用圧電素子成膜・エッチング技術 (特集 マイクロマシン/MEMSの量産を支える設計・製造技術) -- (製造技術編)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 工業調査会の論文

著者

• 木村 勲

  アルバック半導体技術研究所

• 神保 武人

  アルバック半導体技術研究所

関連論文

• スパッタ法によるLaAlO_3の成膜と電気特性の評価(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
• 強誘電体MEMS用圧電素子成膜・エッチング技術 (特集 マイクロマシン/MEMSの量産を支える設計・製造技術) -- (製造技術編)
• 高周波マグネトロンスパッタリング法によるPb(Zr, Ti)O_3圧電薄膜の量産技術
• MOCVDによる強誘電体PZT薄膜キャパシタの作製 : 成膜安定性と前後プロセス依存性(新型不揮発性メモリ)
• MOCVDによる強誘電体PZT薄膜キャパシタの作製 : 成膜安定性と前後プロセス依存性

スポンサーリンク