Ruをキャップ層にしたNiFe薄膜の磁気特性
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概要
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- 2004-09-21
著者
-
小林 浩
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
-
長永 隆志
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
-
黒岩 丈晴
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
-
黒岩 丈晴
三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
-
拜山 沙徳克
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
-
古川 泰助
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
大森 達夫
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
沙徳克 拜山
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
-
古川 泰助
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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