減圧沸騰噴霧を用いたCVD成膜のための新気化供給法の構築 : 第2報 TEOS-n-Pentane溶液系の蒸発過程
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概要
- 論文の詳細を見る
- 2002-12-19
著者
-
松田 耕一郎
(株)堀場製作所
-
三好 一也
同志社大・院
-
千田 二郎
同志社大・工
-
藤本 元
同志社大・工
-
石田 耕三
(株)堀場製作所
-
清水 哲夫
(株)エステック
-
清水 哲夫
株式会社堀場エステック
-
石田 耕三
株式会社堀場製作所
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