フラッシングスプレーCVD法によるNb2O5膜の成膜 (電子デバイス)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 電子情報通信学会の論文
- 2011-07-29
著者
関連論文
- 減圧沸騰噴霧の火炎内ナノ粒子合成法への展開
- 二成分混合溶液を用いた減圧沸騰噴霧によるCVD新気化供給法の構築
- 減圧沸騰噴霧を用いたCVD成膜のための新気化供給法の構築 : 第2報 TEOS-n-Pentane溶液系の蒸発過程
- 減圧沸騰噴霧を用いたCVD新気化供給法の構築
- 2成分混合溶液を用いたCVD新気化供給法の提案(熱工学,内燃機関,動力など)
- フラッシングスプレーCVD法による大面積ウエハへの Nb_2O_5膜の成膜
- フラッシングスプレーCVD法におけるノズル形状の最適化
- G0601-8-4 減圧沸騰を用いた火炎内ナノ粒子合成法の構築(熱工学(8)燃焼(3))
- STAR-CDを用いたCVD新気化供給法における減圧沸騰噴霧の数値解析
- 二成分混合溶液を用いたCVD新気化供給法における減圧沸騰噴霧の把握
- フラッシングスプレーCVD法によるNb2O5膜の成膜 (電子デバイス)
- フラッシングスプレーCVD法によるNb_2O_5膜の成膜(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- フラッシングスプレーCVD法を用いたHfO_2薄膜の作成(続報)